技術特點及用途
該系統是根據目前***先進的微波結構理念,設計和研制的一套多用途、高穩定中等壓強微波等離子體綜合實驗和加工設備。它具有工作容積大、性能先進、結構獨特,使用方便、安全可靠、外形美觀,特別適合應用于金剛石、類金剛石薄膜等多種材料的化學汽相沉積(CVD)制備等高新科技領域。
系統選用10套1kW高穩定程控微波功率源(10kW微波功率源)。內部單片機提供方便程控,采用了先進的磁控管燈絲降壓跟蹤技術,無電容電感濾波的高精度電壓反饋調整穩定技術,磁控管水冷技術,以及完善的線路安全閉鎖控制系統,使其工作壽命長,電氣性能優良,安全可靠,操作簡單方便。
本系統采用***新研制的具有特殊結構的微波反應腔和多管全方位分布饋能結構,以及專門設計的微波抑制段,并配以大容積石英放電腔。使微波功率集中,放電均勻,并能充滿整個放電腔,從而達到快速大面積沉積薄膜的目的。
采用專門設計的真空管路,并配以直聯式機械泵前級抽氣,以及薄膜真空測控系統。使系統具備有從大氣到1×10-1Pa的中低壓強和10K~100Kpa的測量范圍,方便控制和讀數。
采用三路氣體供給和控制系統,內置于設備機柜中,氣路短、緊湊、控制調節方便。
系統采用緊湊簡潔的主體結構,以及獨立的控制單元。使整套設備外形美觀,操作簡便可靠。
技術參數
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產品型號:
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HMPS-2100
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微波源:
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HMG-2100
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工作頻率:
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2450±50MHz
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輸出功率:
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1 ~ 10kW 連續可調
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饋能方式
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多管全方位饋能
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冷卻水流量:
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/min
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微波泄漏
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符合國家標準
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微波反應腔和放電腔
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反應腔容積
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(長),
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石英放電腔
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φ100×。并提供φ180的備用接口
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真空系統
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真空泵抽速
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/min
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極限真空度
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優于1×10-1Pa
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質量流量系統
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三路MFC系統
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各氣路量程由用戶確定
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