技術特點及用途
● 系統采用HMG-2050，5Kw/2450MHz高穩定程控微波功率源。運用完善的線路安全閉鎖控制系統，使該系統工作壽命長，電氣性能優良，安全可靠，操作簡單方便。
● 微波傳輸系統由高性能微波環行器，銷釘調配器，帶反射波取樣的水負載以及外部連接波導組成。它確保反射波對磁控管的良好隔離，并能方便地調節***佳匹配，達到微波功率的***佳傳輸。
● 下注式微波反應腔可在很寬的運行范圍內把微波功率耦合給等離子體，在等離子體放電室中產生高密度、高電離度、大面積均勻穩定的微波放電。為確保穩定工作, 腔壁采用雙層水冷。
● 多端口等離子體放電腔帶8～12個端口，是雙層水冷結構的大容積放電腔。
系統主要用途： 1）金剛石等多種薄膜的化學汽相沉積的研究和中試加工；2）基片的刻蝕和灰化；3）作為高密度、寬束離子源；4）低溫氧化物的生長；5）等離子體表面處理和其它實驗加工。
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技術參數
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產品型號：
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HMPS-2050
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微波源：
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HMG-2050
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工作頻率：
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2450±50MHz
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輸出功率：
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0.5 ~ 5kW 連續可調
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功率穩定度：
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優于±1%
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輸出波導接口：
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BJ-26 帶FD-26標準法蘭
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輸入電源：
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380V/50Hz±5% 三相四線
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冷卻水流量：
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> /min
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微波反應腔
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尺寸和工作模式：
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φ124×200（H）下注TM013模式
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微波放電腔：
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多端口，帶雙層水冷
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3）真空系統： 真空系統：
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/min分子泵和旁路機組，中氣壓真空測控
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氣路系統：
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4路MFC控制
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樣品支架系統：
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基板直徑φ，軸向調節距離：0～150 mm
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直流偏壓源：
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V=300V I=100mA
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會員服務 
供應商參考報價：面議
